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第三代半導體熱潮“帶貨”沉積設備需求考量

放大字體  縮小字體 發(fā)布日期:2021-09-03 19:56:09    作者:企資小編    瀏覽次數(shù):56
導讀

隨著中國“十四五”規(guī)劃的提出、以及全球科技產(chǎn)業(yè)對于“碳達峰、碳中和”的目標達成共識,以碳化硅(SiC)、氮化鎵(GaN)為代表的第三代半導體新材料憑借高擊穿電場、高熱導率、高電子飽和速率以及抗強輻射能力等優(yōu)

隨著中國“十四五”規(guī)劃的提出、以及全球科技產(chǎn)業(yè)對于“碳達峰、碳中和”的目標達成共識,以碳化硅(SiC)、氮化鎵(GaN)為代表的第三代半導體新材料憑借高擊穿電場、高熱導率、高電子飽和速率以及抗強輻射能力等優(yōu)異特性,成為了支撐5G基建、新能源產(chǎn)業(yè)、特高壓、軌道交通等領域的核心技術。數(shù)據(jù)表明,2020年中國“第三代半導體”產(chǎn)業(yè)電力電子和射頻電子總產(chǎn)值超過100億元,同比增長69.5%。其中,SiC、GaN電力電子產(chǎn)值規(guī)模達44.7億元, 同比增長54%;GaN微波射頻產(chǎn)值達到60.8億元,同比增長80.3%。

圖1:2020年中國第三代半導體產(chǎn)業(yè)電力電子和射頻電子總產(chǎn)值


不過,第三代半導體行業(yè)存在相當程度的準入門檻,由于SiC、GaN器件的性能與材料、結構設計和制造工藝之間緊密關聯(lián),多數(shù)半導體企業(yè)為了保持自身競爭力,傾向于采用IDM模式實現(xiàn)設計、制造的一體化。例如華潤微建立了國內(nèi)首條6英寸商用SiC晶圓生產(chǎn)線;英諾賽科也成功擴產(chǎn)位于蘇州的GaN生產(chǎn)基地,使之成為全球最大的8英寸GaN工廠。顯然,在全球半導體產(chǎn)能緊張的局勢下,這些新開設或擴建的產(chǎn)線正在迅速拉升半導體設備的市場需求。以薄膜沉積這一必不可少的制造環(huán)節(jié)為例,在新產(chǎn)線的設備投資中,薄膜沉積設備占據(jù)了約25%的支出比重,是半導體設備市場增量中不可忽視的一環(huán)。因此,如何選擇薄膜沉積設備、使之匹配不斷發(fā)展的寬禁帶半導體制造工藝需求,是橫亙在眾多第三代半導體廠商面前的一道難題。


聚焦新工藝、新材料,40年沉積鍍膜專家為第三代半導體支招


目前,業(yè)界主流的薄膜沉積工藝主要有原子層沉積(ALD)、物理式真空鍍膜(PVD)和化學式真空鍍膜(CVD)等,其中ALD屬于CVD的一種,屬于當下最先進的薄膜沉積技術。那么,哪一類沉積技術適用于第三代半導體呢?業(yè)界領先的ALD設備制造商和服務商——青島四方思銳智能技術有限公司(以下簡稱思銳智能或SRII)總經(jīng)理聶翔先生對此表示:“隨著新材料、新工藝、新制程等應用于半導體制造領域,半導體器件本身也在往更復雜、更高深寬比,甚至是3D異形結構的方向發(fā)展,在超越摩爾領域、第三代半導體應用中更是如此。在這樣的情況下,ALD相比其他鍍膜技術擁有無可替代的優(yōu)越性。”


在實際應用中,思銳智能推出的新一代先進ALD設備可以使材料以單原子膜(0.1nm)形式沉積在基底表面,并且在整體器件的鍍膜控制上達到很高的精確度。以GaN功率器件為例,通過思銳智能的ALD鍍膜技術能夠有效增強GaN器件的性能。首先,通過ALD薄膜可實現(xiàn)器件表面的鈍化和覆蓋;其次,通過氧化鋁疊層實現(xiàn)柵極高K介電質(zhì)的沉積;接下來,通過原位預處理去除自然氧化層,實現(xiàn)表面穩(wěn)定;最后,通過高質(zhì)量的ALD氮化鋁來實現(xiàn)緩沖層,形成更具生產(chǎn)效益的量產(chǎn)方案。

圖2:思銳智能推出應用于GaN功率器件的ALD鍍膜方案


依托思銳智能旗下BENEQ公司近40年的ALD技術應用經(jīng)驗,思銳智能正在為業(yè)界提供廣泛、通用、性能強大的設備產(chǎn)品組合,專注ALD技術以及服務的持續(xù)創(chuàng)新能力,獲得了歐美、日本、中國等全球范圍內(nèi)眾多知名半導體企業(yè)的認可。


產(chǎn)能擴張下的半導體設備機遇,技術服務與供應鏈本地化難題突顯


產(chǎn)能擴張的普遍業(yè)態(tài)正在為設備廠商“簽下大單”,設備提供商也需不斷提升服務質(zhì)量,進一步鞏固自身的市場“護城河”。例如,思銳智能在2018年完成對BENEQ公司的全資收購之后,一直推行“本地化與全球化并行”的策略,除了鞏固歐美市場的份額,也在扎根中國市場、培養(yǎng)本地國際化創(chuàng)新型團隊,逐漸形成完善的覆蓋研發(fā)、售前、售后等環(huán)節(jié)的服務網(wǎng)絡,并加強部署與不同區(qū)域、不同領域、不同機構的產(chǎn)業(yè)生態(tài)合作。


談及本地化的機遇與挑戰(zhàn)時,聶翔表示:“中國市場在不斷涌現(xiàn)一大批半導體制造企業(yè),思銳智能擁有貼近客戶的優(yōu)勢,在發(fā)現(xiàn)客戶對新工藝、新材料應用的需求之后,可以攜手芬蘭團隊進行協(xié)同研發(fā)、共同創(chuàng)新。此外,不同客戶在細節(jié)方面的要求也不盡相同,例如國內(nèi)客戶對交期更加敏感、服務響應速度要求更快等,這對本地化的技術服務能力提出了挑戰(zhàn)。當然,為了交期更短、價格更具競爭優(yōu)勢,供應鏈的安全和高效整合是非常重要的因素。對此,思銳智能做了很多努力,積極推動供應鏈更加高效地運轉、更加符合市場的需求!近期思銳智能官網(wǎng)sri-i和微信公眾號“思銳智能SRII”全新上線,更好地幫助本地客戶清晰、直觀了解思銳智能的應用領域和產(chǎn)品方案。”


除了技術團隊、供應鏈等本地化舉措,思銳智能也在推進不同領域的區(qū)域性合作,包括青島、上海、浙江、粵港澳大灣區(qū)在內(nèi)的眾多產(chǎn)業(yè)集群區(qū)域已經(jīng)納入其布局規(guī)劃中,通過產(chǎn)業(yè)化基地、聯(lián)合實驗室、中試線等方式,致力于實現(xiàn)更多本地化創(chuàng)新,持續(xù)為業(yè)界提供一流、創(chuàng)新的產(chǎn)品解決方案。

 
(文/企資小編)
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